Влияние асимметрии расположения металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек
НПО «Государственный институт прикладной оптики», НИР, №08/2017
Министерство образования и науки Российской Федерации, на основе госзадания, № 007-ГЗ/43363/26
Полетаев С.Д.1, Любимов А.И.2
1Институт систем обработки изображений РАН, Самара, Россия
2Государственный институт прикладной оптики, Казань, Россия
Email: sergpolet@gmail.com, las126@yandex.ru
Поступила в редакцию: 21 июня 2021 г.
В окончательной редакции: 18 июля 2021 г.
Принята к печати: 13 августа 2021 г.
Выставление онлайн: 14 сентября 2021 г.
Теоретически и экспериментально исследовано влияние степени асимметрии расположения металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при селективном реактивно-ионном травлении массивных подложек в плазмообразующих газовых смесях на основе фреона-14. Теоретически показано отсутствие влияния асимметрии расположения маски на удельную реактивную мощность. Показано, что на краю подложки, особенно с маской, возникает резкий рост плотности высокочастотного тока, доказывающий преимущественно поверхностный (торцевой) характер его протекания. Установлено влияние расположения маски на поведение плотности электрических зарядов, коррелирующее с распределением плотности высокочастотного тока в приповерхностном слое подложки. Перераспределения плотности заряда химически активных частиц плазмы на краю маски при этом обнаружено не было. В соответствии с полученными теоретическими результатами экспериментально показано, что металлические маски с соотношением длин сторон 36/0 мм снижают коэффициент отражения по мощности в пределах 5%. Ключевые слова: дифракционный оптический элемент, реактивно-ионное травление, индуктивно связанная плазма, контактная маска, нижний электрод, моделирование COMSOL Multiphysics.
- D.L. Flamm, V.M. Donelly. VLSI Electron. Microstructure Sci., 8, 190 (1985)
- S.B. Odinokov, G.R. Sagatelyan, M.S. Kovalev, K.N. Bugorkov. J. Opt. Technol., 86 (5), 317 (2019). DOI: 10.1364/JOT.86.000317
- V.S. Pavelyev, S.A. Borodin, N.L. Kazanskiy, G.F. Kostyuk, A.V. Volkov. Opt. Laser Technol., 39 (6), 1234 (2007). DOI: 10.1016/j.optlastec.2006.08.004
- N.L. Kazanskiy, V.A. Kolpakov. Optical materials: Microstructuring surfaces with off-electrode plasma (CRC Press, 2017). DOI: 10.1201/b21918
- Methods for Computer Design of Diffractive Optical Elements, ed. by Victor A. Soifer (John Wiley \& Sons, Inc., 2002)
- V. Korolkov, D. Belousov. Int. Conf. Information Technol. and Nanotechnol. ( ITNT), (2020) p. 1. DOI: 10.1109/ITNT49337.2020.9253171
- Н.М. Лебедева, Т.П. Самсонова, Н.Д. Ильинская, С.И. Трошков, П.А. Иванов. ЖТФ, 90 (6), 997 (2020). DOI: 10.21883/JTF.2020.06.49289.12-20 [N.M. Lebedeva, T.P. Samsonova, N.D. Il'inskaya, S.I. Troshkov, P.A. Ivanov. JTF, 65 (6), 957 (2020). DOI: 10.1134/S1063784220060195]
- B. Zhang, X. Zhang. Vacuum, 174, 109215 (2020). https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2020.109215
- C. Jia, J. Linhong, Z. Yu, S. Yixiang. J. Semicond., 31 (3), 032004 (2010). DOI: 10.1088/1674-4926/31/3/032004
- T. Xiao, D. Ni. Chem. Eng. Res. Des., 164, 113 (2020). https://doi.org/10.1016/j.cherd.2020.09.013
- A.O. Brezmes, C. Breitkopf. Vacuum, 109, 52 (2014). http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2014.06.012
- П.А. Носов, А.Ф. Ширанков, Р.С. Третьяков, А.Г. Григорьянц, А.Я. Ставертий. Изв. вузов. Приборостроение, 59 (12), 1028 (2016). DOI: 10.17586/0021-3454-2016-59-12-1028-1033
- N.L. Kazanskiy, G.V. Uspleniev, A.V. Volkov. Proc. SPIE, 4316, 193 (2000). DOI: 10.1117/12.407678
- С.Д. Полетаев, А.И. Любимов. ЖТФ, 91 (4), 657 (2021). DOI: 10.21883/JTF.2021.04.50630.271-20 [S.D. Poletayev, A.I. Lyubimov. JTF, 66 (4), 639 (2021). DOI: 10.1134/S1063784221040150]
- E.T. Lim, J.S. Ryu, C.W. Chung. Thin Sol. Films, 665, 1 (2018). https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.08.046
- M.A. Butt, S.N. Khonina N.L. Kazanskiy. Computer Optics, 43 (6), 1079 (2019). DOI: 10.18287/2412-6179-2019-43-6-1079-1083
- С.Д. Полетаев, А.И. Любимов. Письма ЖТФ, 47 (11), 44 (2021). DOI: 10.21883/PJTF.2021.11.51008.18717
- И.Е. Ефимов, Г.А. Останькович. Радиочастотные линии передачи (М., Связь, 1977)
- Е. Берлин, С. Двинин, Л. Сейдман. Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок (М., Техносфера, 2007)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
