Вышедшие номера
Дефектная люминесценция пленок GaN : Zn, отожженных в высокочастотной плазме аммиака
Сукач Г.А.1, Кидалов В.В.2, Власенко А.И.1, Потапенко Е.П.1
1Институт физики полупроводников Национальной академии наук Украины, Киев, Украина
2Бердянский государственный педагогический институт, Бердянск, Украина
Поступила в редакцию: 15 декабря 2002 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2003 г.

Проведены исследования влияния отжига в радикалах азота, полученных путем обработки аммиака в высокочастотном разряде, на люминесцентные свойства пленок GaN : Zn, выращенных методом МОС-гидридной эпитаксии на сапфировых подложках (0001). По мере повышения температуры отжига наблюдалось монотонное уменьшение фиолетовой (2.88 эВ) и близкраевой (3.48 эВ) полос фотолюминесценции. В результате отжига в радикалах азота при температурах 500-750oC обнаружены новые полосы с энергиями максимумов 3.27 и 3.42 эВ, интенсивность которых увеличивалась с ростом температуры отжига. Проведен критический анализ механизмов образования и природы всех полос. Установлено, что полосы люминесценции 2.88, 3.42 и 3.27 эВ характерны для пленок GaN, полученных с помощью практически всех технологий, и связаны с простыми дефектами структуры. Экспериментально доказано участие кислорода в формировании полосы 3.42 эВ.