Вышедшие номера
Флуктуации заряда на границе сращивания в структурах кремний-на-изоляторе
Антонова И.В.1, Стучинский В.А.1, Наумова О.В.1, Николаев Д.В.1, Попов В.П.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 10 февраля 2003 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2003 г.

Исходя из данных емкостной спектроскопии глубоких уровней в работе проведена оценка флуктуаций заряда на границе <отсеченный слой кремния>-<скрытый диэлектрик> в структурах кремний-на-изоляторе. Граница создана сращиванием кремния с термически окисленной подложкой. Определена величина флуктуаций заряда на границе, равная или превышающая значение (1.5-2.0)· 1011 см-2 на фоне заряда ~ 5· 1011 см-2 на данной границе. Показано, что флуктуации связаны скорее всего с отрицательным зарядом на поверхностных состояниях, а не с флуктуациями фиксированного положительного заряда в окисле.