Вышедшие номера
Теория туннельного токопереноса в контактах металл- полупроводник с приповерхностным изотипным delta-легированием
Шашкин В.И.1, Мурель А.В.1
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Поступила в редакцию: 21 октября 2003 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2004 г.

Построена теория туннельного токопереноса в контактах металл-полупроводник с приповерхностным изотипным delta-легированием. На основе подхода Мерфи и Гуда, с учетом снижения высоты потенциального барьера за счет сил изображения, получены аналитические выражения для тока. Проведен расчет характеристик delta-легирования, обеспечивающего эффективную термополевую эмиссию в контакте металл-полупроводник и уменьшение эффективной высоты барьера от исходных значений до единиц kT. Установлено, что зависимость тока от напряжения в контакте с изотипным delta-легированием носит в основном экспоненциальный характер. Показано, что для всех значений высоты барьера возможно сохранение малого фактора неидеальности n=<q 1.07. Резкое его возрастание до n>=q 1.5 характерно для контактов с не полностью обедненным delta-слоем.