Вышедшие номера
Исследование активации примеси в InP, имплантированном ионами бериллия, методом фотоотражения
Авакянц Л.П.1, Боков П.Ю.1, Червяков А.В.1
1Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Москва, Россия
Поступила в редакцию: 17 мая 2004 г.
Выставление онлайн: 20 января 2005 г.

Методом спектроскопии фотоотражения исследован процесс активации примеси в кристаллаx InP, имплантированных ионами Be+ с энергией 100 кэВ и дозой 1013 см-2 и подвергнутых термическому отжигу в течение 10 с. При температурах отжига до 400oC в спектрах отсутствуют линии, характерные для кристаллического InP, что свидетельствует о разупорядочении кристаллической решетки вследствие ионной имплантации. При температурах отжига 400-700oC в спектрах наблюдаются линии, связанные с фундаментальным переходом InP (1.34 эВ) и переходом между зоной проводимости и спин-орбитально отщепленной подзоной валентной зоны (1.44 эВ), что указывает на восстановление кристаллической структуры. Для образцов, отожженных при температуре 800oC, в спектре фотоотражения наблюдаются осцилляции Франца-Келдыша, что свидетельствует об активации примеси. По периоду осцилляций определена концентрация свободных носителей, которая составила 2.2· 1016 см-3.