Вышедшие номера
Десорбция водорода с поверхности в условиях эпитаксиального наращивания слоев кремния из моносилана в вакууме
Орлов Л.К.1, Смыслова Т.Н.2
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
2Российский федеральный ядерный центр --- Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики, Саров, Нижегородская обл., Россия
Поступила в редакцию: 10 февраля 2005 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2005 г.

Впервые по экспериментальным данным, описывающим степень покрытия поверхности кремниевой пластины водородом непосредственно в процессе выращивания эпитаксиального слоя кремния из силана в вакууме, определен коэффициент десорбции водорода и энергия активации этого процесса. Проведено сопоставление данных величин с результатами других авторов, полученных в условиях низкотемпературного эксперимента, например, методом термодесорбционной спектрометрии. Найденные величины использованы для вычисления коэффициента кристаллизации и его зависимости от температуры роста и скорости распада моносилана на ростовой поверхности.