О влиянии поперечного квантования на электрические характеристики туннельной МОП структуры субмикрометровых размеров
Векслер М.И.1, Грехов И.В.1, Шулекин А.Ф.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 10 марта 2005 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2005 г.
Изучаются изменения характеристик туннельной МОП структуры Al / SiO2 / n-Si, происходящие при снижении ее поперечных размеров в диапазоне от микрометра до нескольких нанометров. При моделировании учитывается квантование движения носителей в плоскости, перпендикулярной направлению туннелирования. Для большей наглядности МОП структура рассматривается как инжектор (туннельный МОП эмиттер) биполярного транзистора. Показано, что уменьшение размеров не вызывает качественных изменений электрических характеристик прибора, но приводит к некоторому снижению коллекторного тока и в особенности усиления. Полученные данные важны как сами по себе, так и в связи со скейлингом полевых транзисторов, поскольку транзистор с туннельным МОП эмиттером является одним из практически интересных режимов включения обычного полевого транзистора.
- SEMATECH. The International Technology Roadmap for Semiconductors. http: // public.itrs.net / home.htm (2001)
- H.S. Momose, M. Ono, T. Yoshitomi, T. Ohguro, S. Nakamura, M. Saito, H. Iwai. IEEE Trans. Electron Dev., ED-43 (8), 1233 (1996)
- J.P. Shiely. Simulation of tunneling in MOS devices (Duke Univ., NC USA, 1999) Chapt. 5.5
- J.G. Simmons, G.W. Taylor. Sol. St. Electron., 29 (3), 287 (1986)
- E. Aderstedt, I. Medugorac, P. Lundgren. Sol. St. Electron., 46 (4), 497 (2002)
- Е.В. Остроумова, А.А. Рогачев. ФТП, 33 (9), 1126 (1999)
- A.F. Shulekin, M.I. Vexler, H. Zimmermann. Semicond. Sci. Technol., 14 (5), 470 (1999)
- I.V. Grekhov, K. Schmalz, A.F. Shulekin, K. Tittelbach-Helmrich, M.I. Vexler. Cryogenics, 38 (6), 613 (1998)
- Т. Андо, А. Фаулер, Ф. Стерн. Электронные свойства двумерных систем (М., Мир, 1985) гл. 3
- W.E. Drummond, J.L. Moll. J. Appl. Phys., 42 (13), 5556 (1971)
- С. Зи. Физика полупроводниковых приборов (М., Мир, 1984) т. 1, гл. 1
- R. Tsu, L. Esaki. Appl. Phys. Lett., 22 (11), 562 (1973)
- Д.И. Блохинцев. Основы квантовой механики (М., Высш. шк., 1961) с. 121, 329
- A. Ghetti, A. Hamad, P.J. Silverman, H. Vaidya, N. Zhao. Proc. SISPAD (Kyoto, 1999) p. 239
- A. Schenk, G. Heiser. J. Appl. Phys., 81 (12), 7900 (1997)
- A. Haque, K. Alam. Appl. Phys. Lett., 81 (4), 667 (2002)
- S.K. Lai, P.V. Dressendorfer, T.P. Ma, R.C. Barker. Appl. Phys. Lett., 38 (1), 41 (1981)
- L.N. Bolotov, I.V. Makarenko, A.F. Shulekin, A.N. Titkov. Surf. Sci., 331--333, 468 (1995)
- И.В. Грехов, Е.В. Остроумова, А.А. Рогачев, А.Ф. Шулекин. Письма ЖТФ, 17 (13), 44 (1991)
- R. Khlil, A. El Hdiy, A.F. Shulekin, S.E. Tyaginov, M.I. Vexler. Microelectron. Reliab., 44 (3), 543 (2004)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.