Вышедшие номера
Рентгенодифракционные и электронно-микроскопические исследования влияния gamma-излучения на многослойные гетероструктуры AlGaAs/InGaAs/GaAs
Бобыль А.В.1, Гуткин А.А.1, Брунков П.Н.1, Заморянская И.А.1, Яговкина М.А.1, Мусихин Ю.Г.1, Саксеев Д.А.1, Конников С.Г.1, Малеев Н.А.1, Устинов В.М.1, Копьёв П.С.1, Пунин В.Т.2, Илькаев Р.И.2, Алфёров Ж.И.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Российский федеральный ядерный центр ВНИИЭФ, Саров, Россия
Поступила в редакцию: 22 ноября 2005 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2006 г.

Исследовано влияние gamma-излучения на структурные изменения в транзисторных многослойных гетероструктурах AlGaAs/InGaAs/GaAs. С помощью рентгенодифракционных измерений и просвечивающей электронной микроскопии установлено, что при gamma-облучении с дозой выше ~3· 107 рад начинает происходить разрушение слоя GaAs, находящегося на поверхноcти таких структур. При дозе облучения 108 рад планарность поверхности значительно ухудшается и ее шероховатость достигает нескольких нанометров. Кроме того, в приповерхностном слое структуры под воздействием gamma-облучения наблюдается образование дислокаций. Причина такого поведения поверхностного слоя может быть связана с существованием слоя окисла на его свободной поверхности и с возможными, индуцируемыми gamma-облучением, химическими реакциями между атомами слоя и свободными радикалами, образующимися в окисле и в окружающей атмосфере. Заметных изменений структуры и состава тонкого слоя канала InGaAs при дозах до 108 рад не происходит. PACS: 61.80.Cb, 68.35.Ct, 68.37.Lp, 68.55.Jk, 81.40.Wx