Вышедшие номера
Особенности отжига радиационных дефектов в облученных кристаллах p-Si
Пагава Т.А.1
1Грузинский технический университет, РЦСИ, Тбилиси, Грузия
Поступила в редакцию: 26 июня 2006 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2007 г.

Исследовались монокристаллы p-кремния полученные методом Чохральского, с концентрацией дырок p=6·1013 см-3. Образцы облучались электронами с энергией 8 МэВ при 300 K. Изохронный отжиг облученных кристаллов производился в интервале температур Tann=100-500oC. Исследования проводились методом Холла в интервале 77-300 K. Показано, что отжиг дивакансий происходит путем их преобразования в комплексы BsV2. Комплексу BsV2 соответствует уровень энергии Ev+0.22 эВ, и он отжигается в интервале температур 360-440oC. Высказано предположение, что дефекты с уровнем Ev+0.2 эВ, которые отжигаются в интервале температур Tann=340-450oC, являются мультикомпонентными комплексами и содержат атомы легирующей и фоновых примесей. PACS: 61.72.Ce, 61.80.Fe, 72.80.Cw