Исследуется плоская газоразрядная структура, где один из электродов - высокоомный полупроводник, который может обеспечить стабильное равномерное распределение тока и свечение газового разряда по всему объему газоразрядного зазора. Установлено, что влияние полупроводникового электрода на распределение стационарного тока в газорязрядном зазоре связано с проводимостью его приповерхностного слоя, а объемное сопротивление полупроводника определяет лишь сопротивление нагрузки. Экспериментально показано, что локальная металлизация поверхности полупроводника приводит к шнурованию в местах металлизации. Делается вывод, что основной причиной, ограничивающей вероятность шнурования тока и обеспечивающей стабилизацию разряда, является электрическое поле в газовом зазоре, перпендикулярное токовому шнуру в месте его контакта с полупровдником. Сделана качественная оценка этого эффекта. Очевидное условие малости этого поля по сравнению с продольным полем в шнуре допускает два типа шнурования. Во-первых, одиночный шнур при достаточно большой проводимости поверхностного слоя полупровдника. Во-вторых, большое количество шнуров, почти полностью покрывающих поверхнсть электродов, при малой поверхностной проводимости. PACS: 73.25+i, 73.40.-c, 82.40.Np, 82.45.Fk

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.