Вышедшие номера
Туннельно-инжекционные структуры InGaAs с наномостиками: перенос возбуждения и кинетика люминесценции
Талалаев В.Г.1,2, Сеничев А.В.1, Новиков Б.В.1, Tomm J.W.3, Elsaesser T.3, Захаров Н.Д.4, Werner P.4, Gosele U., Самсоненко Ю.Б.5, Цырлин Г.Э.5
1Научно-исследовательский институт физики им. В.А. Фока Санкт-Петербургского государственного университета, Санкт-Петербург, Петергоф, Россия
2Martin--Luther--Universitat, ZIK "SiLi-nano", Halle, Deutschland
3Max--Born--Institut fur Nichtlineare Optik und Kurzzeitspektroskopie, Berlin, Deutschland
4Max--Planck--Institut fur Mikrostrukturphysik, Halle (Saale), Deutschland
5Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 28 декабря 2009 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2010 г.

Методами оптической спектроскопии и электронной микроскопии исследованы туннельно-нижекционные наноструктуры, активная область которых состояла из верхнего слоя квантовой ямы In0.15Ga0.85As в качестве инжектора носителей и нижнего слоя квантовых точек In0.6Ga0.4As в качестве эмиттера света, разделенных слоем барьера GaAs. В зависимости времени туннелирования от толщины барьера обнаружены отклонения от полуклассической модели Вентцеля-Крамерса-Бриллюэна. Сокращение времени переноса до единиц пикосекунд при толщине барьера менее 6 нм объясняется формированием между вершинами квантовых точек и слоем квантовой ямы наномостиков InGaAs, в том числе с собственным дырочным состоянием. Учтено влияние наведенного туннелированием электрического поля на время переноса носителей в туннельно-инжекционной наноструктуре.