Вышедшие номера
Радиационно-стимулированная деградация поверхности GaAs и транзисторных структур с высокой подвижностью электронов
Бобыль А.В.1, Конников С.Г.1, Устинов В.М.1, Байдакова М.В.1, Малеев Н.А.1, Саксеев Д.А.1, Конакова Р.В.2, Миленин В.В.2, Прокопенко И.В.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Институт физики полупроводников им. В.Е. Лашкарева Национальной академии наук Украины, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 8 декабря 2011 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2012 г.

Проведены исследования транзисторных гетероструктур с высокой подвижностью носителей тока. Показано, что при увеличении дозы gamma-облучения Phi их деградация включает следующую последовательность. 1) При Phi<107 рад наблюдается разрушение приповерхностного слоя GaAs глубиной до 10 нм за счет уменьшения энергии диффузии собственных дефектов на величину более 0.2 эВ и, вероятно, атмосферного кислорода. 2) При Phi>107 рад вблизи микродефектов, дислокаций формируются области размером более 1 мкм со значительным структурным беспорядком. 3) При Phi>108 рад происходит деградация внутренних интерфейсов AlGaAs/InGaAs/GaAs и рабочего канала. Эффективным способом исследования процессов разрушении гетероструктур является использование комплекса методик структурной диагностики, изучение процессов радиационной и временной деградации в сочетании с теоретическим моделированием протекающих процессов.