Вышедшие номера
Оптические и электрические свойства слоев a-Si 1- xC x:H, перспективных для электрофотографических применений
Кудоярова В.Х.1, Теруков Е.И.1, Трапезникова И.Н.1, Виолина Г.Н.1, Елькина Н.В.1, Каваляускас Р.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 24 ноября 1993 г.
Выставление онлайн: 20 июля 1994 г.

Проведено комплексное исследование оптических, структурных и электрических свойств слоев аморфного гидрогенизированного карбида кремнияa-Si1-xCx:H в диапазоне составов, соответствующих 0<x<0.5, приготовленного из смесей CH4+SiH4+Ar/H2 в плазме высокочастотного тлеющего разряда. Исследование этих твердых растворов проводится с целью их использования в электрофотографии. Показано, что аморфный гидрогенизированный карбид кремния может быть использован в многослойных электрофотографических слоях в качестве блокирующего слоя (что дает возможность осуществить бизарядный режим записи информации), пассивирующего слоя (что позволяет улучшить процесс накопления заряда на поверхности), слоя переноса заряда. В работе оптимизированы режимы получения a-Si1-xCx:H для каждого из слоев, а также осуществлена приборная (практическая) реализация полученных результатов, т. е. получены электрофотографические оттиски.