Дефектообразование в кремнии, легированном золотом, при облучении низкоэнергетичными электронами
Феклисова О.В.1, Якимов Е.Б.1, Ярыкин Н.А.1
1Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской академии наук, Черноголовка, Россия
Поступила в редакцию: 12 мая 1994 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 1994 г.
Обнаружено, что облучение монокристалла кремния, легированного золотом, подпороговыми электронами с энергией в диапазоне 10/25 КэВ приводит к возникновению в приповерхностной области образца на глубине до нескольких микрометров дефектов с глубоким уровнем, расположенным на 0.20 эВ ниже дна зоны проводимости. Установлена индентичность этих дефектов с центрами, образующимися при химическом травлении тех же кристаллов. В качестве возможных причин наблюдаемых явлений обсуждается рекомбинационно-стимулированный вывод атомов золота в межузельное положение или их взаимодействие с атомарным водородом, проникающим в кристалл из адсорбированного слоя воды.
- V.V. Aristov, V.V. Kazmiruk, N.G. Ushakov, E.B. Yakimov, S.I. Zaitsev. Vacuum, \bf 38, 1045 (1988)
- В.В. Емцев, Т.В. Машовец. \it Примеси и точечные дефекты в полупроводниках (М., Радио и связь, 1981)
- В.С. Вавилов, А.Е. Кив, О.Р. Ниязова. \it Механизмы образования и миграции дефектов в полупроводниках (М., Наука, 1981)
- В.В. Болотов, В.К. Спиридонов, В.М. Эмексузян. Поверхность, вып. \bf 8, 49 (1988)
- O.O. Awadelkarim, H. Weman, B.G. Svensson, J.L. Lindstrom. J. Appl. Phys., \bf 60, 1974 (1986)
- С.В. Ковешников, С.В. Носенко, Е.Б. Якимов. ФТП, \bf 22, 922 (1988)
- И.Н. Яссиевич, В.М. Чистяков. ФТП, 26, 1815 (1992)
- S.J. Pearton, J.W. Corbett, J.T. Borenstein. Physica B, \bf 170, 85 (1991)
- S.J. Pearton, J.W. Corbett, T.S. Shi. Appl. Phys. A, \bf 43, 153 (1987)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.