Влияние конкурирующих центров преципитации на распределение имплантируемого азота в Si при формировании захороненных слоев
Качурин Г.А.1, Тысченко И.Е.1, Тийс С.А.1, Плотников А.Е.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 20 июня 1994 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 1995 г.
Преципитация имплантируемого при 1000oC азота стимулировалась введением центров осаждения в результате предварительныого облучения ионами N+ или Ar+ при более низкой температуре. Обнаружены существенные изменения в распределении преципитирующего азота в зависимости от условий предварительного облучения. Эффекты объяснены конкуренцией стоков для примесных атомов и точечных дефектов.
- L. Nesbit, S. Stiffler, G. Slusser, H. Vinton. Electrochem. Soc., 132, 2713 (1985)
- C.G. Tuppen, M.R. Taylor, P.L.F. Hemment, R.P. Arrowsmith. Appl. Phys. Lett., 45, 57 (1984)
- G.F. Gerofolini, S. Bertoni, P. Fumagalli, L. Meda, C. Spaggiari. Phys. Rev. B, 47, 10174 (1993)
- S. Reiss, K.-H. Heinig. Nucl. Instrum. Meth. B, 84, 229 (1994)
- S. Reiss, R. Weber, K.-H. Heinig, W. Skorupa. Nucl. Instrum. Meth. B, 89, 337 (1994)
- G.A. Kachurin, I.E. Tyschenko, V.P. Popov, S.A. Tijs. Phys. St. Sol. (a), 113, K165 (1989)
- G.A. Kachurin, I.E. Tyschenko, L.I. Fedina. Nucl. Instrum. Meth. B, 68, 323 (1992)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.