Слои a-C : H выращены методом реактивного магнетронного распыления графитовой мишени в атмосфере Ar+H₂ на постоянном токе. Проведены эллипсометрические измерения на длине волны 6328 Angstrem и осуществлен их анализ для трех серий слоев a-C : H различной толщины (разные времена осаждения) на подложках из кремния, плавленого кварца и ситалла. Показано, что материал подложки существенно влияет на рост слоев a-C : H: слои a-C : H на подложках из кремния были однородными до толщин ~ 7000 Angstrem; для тонких слоев(<1000 Angstrem) скорость роста на кварце больше, чем на кремнии, значения показателя преломления a-C : H на кварце и Si несколько раличались (1.60/ 1.65 и 1.65/ 1.72 соответственно); слои a-C : H на подложках из ситалла были неоднородными, с переменным по толщине показателем преломления.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.