Переходный слой в контактах Шоттки TiB2--GaAs и Au--TiB2--GaAs
Венгер Е.Ф.1, Конакова Р.В.1, Охрименко О.Б.1, Сапко С.Ю.1, Шеховцов Л.В.1, Иванов В.Н.1
1Институт физики полупроводников Национальной академии наук Украины, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 18 июля 2000 г.
Выставление онлайн: 19 марта 2001 г.
Измерены спектральные характеристики поперечной объемной фотоэдс в исходных (неотожженных) и отожженных при температуре 400, 600 и 800oC образцах контактов Шоттки TiB2-GaAs и Au-TiB2-GaAs с концентрацией легирующей примеси в подложке n-GaAs равной 1016 см-3. Установлено, что в структурах TiB2-GaAs образуется переходной слой вследствие диффузии атомов бора в подложку GaAs. Температурный отжиг приводит к увеличению степени его легирования. В структуре Au-TiB2-GaAs формируется переходной слой, уровень легирования которого слабо изменяется при температурном отжиге. Спектральное положение максимумов объемной фотоэдс указывает на образование хвостов плотности состояний в полупроводниковом переходном слое вследствие повышения степени его легирования примесями до концентрации 1017-1018 см-3.
- Р.А. Андриевский. Успехи химии, 66, 57 (1977)
- А.В. Галанхин, Б.В. Маркин, В.В. Чикун. ЭТ, сер. СВЧ техника, 4, 38 (1994)
- А.С. Драненко, Л.А. Дворина. Тугоплавкие соединения в микроэлектронике (Киев, ИПМ, 1996) с. 10
- В.Б. Бессонов, В.Н. Иванов, А.С. Драненко, В.З. Сканун, В.М. Яшнин. Применение традиционных и разработка новых пленочных материалов (Киев, ИПМ, 1994) с. 65
- R. Gonzulez, M.G. Barandika, D. Oca, J.M. Sunchez, A. Villelas, A. Valea, F. Castro. Mater. Sci. Engin. A, 210, 185 (1996)
- A. Hirose, M. Hasegawa, K.F. Kobayashi. Mater. Sci. Engin. A, 239--240, 46 (1997)
- I. Zergioti, M. Velegrakis, G.N. Haidemenopoulos. Appl. Surf. Sci., 126, 92 (1998)
- Я. Тауц. Фото- и термоэлектрические явления в полупроводниках (М., ИЛ, 1962)
- И.А. Баев, Е.Г. Валяшко ФТТ, 7, 2585 (1965)
- С.И. Несмелов. Изв. вузов. Физика, N 3, 37 (1999)
- В.В. Антипин, В.А. Годовицын, Д.В. Громов, А.С. Кожевников, А.А. Раваев. Зарубеж. радиоэлектрон. N 1, 37 (1995)
- Л.В. Шеховцов, А.В. Саченко, Ю.М. Шварц. ФТП, 29 (3), 566 (1995)
- Е.Ф. Венгер, В.В. Миленин, И.Б. Ермолович, Р.В. Конакова, В.Н. Иванов, Д.И. Войциховский ФТП, 33 (8) 948 (1999)
- M.D. Sturge. Phys. Rev., 127, (3), 768 (1962)
- А.С. Драненко, Л.А. Дворина, В.М. Яшник. Тугоплавкие соединения в микроэлектронике (Киев, ИПМ, 1996) с. 52--55
- В.Б. Бондаренко, Ю.А. Кудинов, С.Е. Ершов, В.В. Кораблев. ФТП, 32 (5), 554 (1998)
- А.Н. Андронов, Н.Т. Баграев, Л.Е. Клячкин, С.Б. Робозеров. ФТП 32 (2), 137 (1998)
- Б.И. Бедный. ФТП, 33 (11), 1350 (1999)
- Ж. Панков. Оптические процессы в полупроводниках (М., Мир, 1973)
- H.C. Casay, jr., D.D. Sell, K.W. Wecht. J. Appl. Phys., 46, (1), 250 (1975)
- А. Милнс. Примеси с глубокими уровнями в полупроводниках (М., Мир, 1977)
- Z. Liliental-Weber, R. Gronsky, J. Washburn, N. Newman, W.E. Spicer, E.R. Weber. J. Sci. Technol. B, 4 (4), 912 (1986)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.