Вышедшие номера
Влияние температуры отжига на электролюминесценцию ионов эрбия в Si : (Er,O)-диодах: диоды с ориентацией подложки (111)
Соболев Н.А.1, Емельянов А.М.1, Николаев Ю.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 30 марта 2001 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2001 г.

Исследовано влияние температуры второго, активирующего образование оптически и электрически активных центров, отжига Si : (Er,O)-диодов с ориентацией (111) на электролюминесценцию ионов эрбия на длине волны lambda~1.54 мкм. Легирование осуществлялось имплантацией ионов эрбия с энергиями 2.0, 1.6 МэВ дозами 3·1014 см-2, а также ионов кислорода с энергиями 0.28, 0.22 МэВ дозами 3·1015 см-2. При комнатной температуре интенсивность электролюминесценции в режиме пробоя возрастает с ростом температуры отжига от 700 до 950oC. При температурах отжига 975-1100oC электролюминесценция эрбия в режиме пробоя не наблюдается из-за возникновения микроплазм. Интенсивность инжекционной электролюмиенсценции при 80 K убывает с ростом температуры отжига от 700 до 1100oC.