Образование преципитатов beta-FeSi2 в микрокристаллическом Si
Теруков Е.И.1, Коньков О.И.1, Кудоярова В.Х.1, Гусев О.Б.1, Давыдов В.Ю.1, Мосина Г.Н.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 2 апреля 2002 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2002 г.
Впервые наблюдалось образование преципитатов beta-FeSi2 в пленках микрокристаллического кремния. Пленки аморфного кремния, легированные железом (a-Si<Fe>), были получены методом магнетронного распыления. Последующий кратковременный термический отжиг приводил к переходу аморфного кремния в микрокристаллический и образованию преципитатов beta-FeSi2. Показано, что синтезированные образцы излучали на длине волны lambda~1.54 мкм при 100 K.
- M.C. Bost, J.E. Mahan. J. Appl. Phys., 58, 2696 (1985)
- D. Leong, M. Harry, K.J. Reeson, K.P. Homewood. Nature, 387, 686 (1997)
- K. Lefki, P. Muret, N. Cherief, R.S. Cinti. J. Appl. Phys., 69, 352 (1991)
- B.O. Kolbesen, H. Cerva. Phys. St. Sol. (b), 222, 303 (2000)
- Р.И. Баталов, Р.М. Баязитов, Е.И. Теруков, В.Х. Кудоярова, G. Waiser, H. Kuehne. ФТП, 35 (11), 1320 (2001)
- R.I. Batalov, R.M. Bayazitov, I.B. Khaibullin, E.I. Terukov, V.Kh. Kudoyarova. Nanotechnology, 12, 409 (2001)
- B.L. Sharma. Diffusion in semiconductors. Trans. Tech. Pub. Germany, 87 (1970)
- K. Lefki, P. Muret, E. Bustarret, N. Boutarek, R. Madar, J. Chevrier, J. Derrien, M. Brunel. Sol. St. Commun., 80, 791 (1991)
- A.G. Birdwell, R. Glosser, D.N. Leong, K.P. Homewood. J. Appl. Phys., 89, 965 (2001)
- JCPDS Powder Diffraction File. Publ. by Int. Centr for Diffraction Data (Swarthmore, USA, 1989)
- Н.А. Дроздов, А.А. Патрин. Письма ЖЭТФ, 23, 800 (1976). [Zh. Eksper. Teor. Fiz., Pisma, 23, 651 (1976)]
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.