Вышедшие номера
Сегрегация Sb в Ge эпитаксиальных слоях и ее использование для селективного легирования структур на основе германия
Антонов А.В.1, Дроздов М.Н.1,2, Новиков А.В.1,2, Юрасов Д.В.1,2
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
2Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
Поступила в редакцию: 22 апреля 2015 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2015 г.

Исследована сегрегация сурьмы в Ge эпитаксиальных слоях, выращенных методом молекулярно-пучковой эпитаксии на Ge(001) подложках. Для диапазона температур роста 180-325oC определена температурная зависимость коэффициента сегрегации Sb в Ge, показавшая резкий (более чем на 3 порядка) его рост с увеличением температуры. Сильная зависимость сегрегационных свойств Sb от температуры роста позволила адаптировать для селективного легирования Ge структур донорными примесями метод, основанный на контролируемом использовании сегрегации, ранее развитый для легирования Si структур. С использованием данного метода получены селективно-легированные Ge : Sb структуры, в которых изменение объемной концентрации примеси на порядок происходит на толщинах слоев в 3-5 нм.