Формирование и свойства захороненного изолирующего слоя двуокиси кремния в двухслойных структурах "пористый кремний-на-изоляторе"
Болотов В.В.1, Князев Е.В.1, Пономарева И.П.1, Кан В.Е.1, Давлеткильдеев Н.А.1, Ивлев К.Е.1, Росликов В.Е.1
1Омский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук, Омск, Россия
Email: kan@obisp.oscsbras.ru
Поступила в редакцию: 24 марта 2016 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2016 г.
Изучен процесс окисления мезопористого кремния в двухслойной структуре "макропористый кремний-мезопористый кремний". Методами электронной микроскопии, эллипсометрии, электрофизическими измерениями исследована морфология и диэлектрические свойства получаемого слоя захороненного диэлектрика. Определено наличие специфического вида дефектов "шипов", возникающих при окислении стенок макропор в макропористом кремнии, границ пересечения фронтов окисления мезопористого кремния. Установлено, что при исходной пористости мезопористого кремния 60% и трехстадийном термическом окислении формируются захороненные слои двуокиси кремния с напряженностью электрического поля пробоя Ebr~ 104-105 В/cм. Показана перспективность применения многослойных структур "пористый кремний-на-изоляторе" в интегрированных химических микро- и наносенсорах. DOI: 10.21883/FTP.2017.01.8246
- W.I. Laminack, J.L. Gole. Nanomaterials, 3, 469 (2013)
- V.A. Moshnikov, I. Gracheva, A.S. Lenshin, Y.M. Spivak, M.G. Anchkov, V.V. Kuznetsov, J.M. Olchowik. J. Non-Cryst. Sol., 358, 590 (2012)
- L. Zhao, M. Yosef, M. Steinhart, P. Goring, H. Hofmeister, U. Gosele, S. Schlecht. Angew. Chem. Int. Ed., 45, 311 (2006)
- R. Triantafyllopoulou, X. Illa, O. Casals, S. Chatzandroulis, C. Tsamis, A. Romano-Rodriguez, J.R. Morante.Microelectron. Eng., 85, 1116 (2008)
- V.M. Arakelyan, Kh.S. Martirosyan, V.E. Galstyan, G.E. Shahnazaryan, V.M. Aroutiounian. Phys. Status. Solidi C, 4 (6), 2059 (2007)
- F.A. Garces, L.N. Acquaroli, R. Urteaga, A. Dussan, R.R. Koropecki, R.D. Arce. Thin Sol. Films, 520 (13), 4254 (2012)
- N. Sankara Subramanian, R. Vivek Sabaapathy, P. Vickraman, G. Vimal Kumar, R. Sriram, B. Santhi. Ionics, 13, 323 (2007)
- В.В. Болотов, В.Е. Росликов, Е.А. Росликова, К.Е. Ивлев, Е.В. Князев, Н.А. Давлеткильдеев. ФТП, 48, 412 (2014)
- В.В. Болотов, В.Е. Росликов, К.Е. Ивлев, Е.В. Князев. Патент РФ N 2554298 C1 (2015)
- V.V. Bolotov, K.E. Ivlev, E.V. Knyazev, V.E. Roslikov, I.V. Ponomareva. Procedia Engin., 113, 506 (2015)
- M.D. Frey. Scanning Microscopy for Nanotechnology Techniques and Applications, ed. by W. Zhou, Z.L. Wang (Springer Science+Business Media, LLC, 2006) p. 101
- H. Fujiwara. Spectroscopic ellipsometry: principles and applications (Chichester, John Wiley \& Sons Ltd, 2007) p. 177
- В.В. Болотов, Н.А. Давлеткильдеев, А.А. Коротенко, В.Е. Росликов, Ю.А. Стенькин. ЖТФ, 81 (11), 52 (2011)
- V.V. Bolotov, M.D. Efremov, I. Babanskaya, K. Schmalz. Mater. Sci. Eng., B, 21, 49 (1993)
- V.V. Bolotov, M.D. Efremov, V.M. Emeksuzyan, K. Schmalz. Sol. St. Phenomena, 19- 20, 13 (1991)
- J.J. Yon, K. Barla, R. Herino, G. Bomchil. J. Appl. Phys., 62, 1042 (1987)
- W. Theib. Surf. Sci. Reports, 29, 91 (1997)
- А.В. Васин, П.Н. Охолин, И.Н. Веровский, А.Н. Назаров, В.С. Лысенко, К.И. Холостов, В.П. Бондаренко, Y. Ishikawa. ФТП, 45, 360 (2011)
- А.А. Копылов, А.Н. Холодилов. ФТП, 31, 556 (1997)
- Ю.К. Ундалов, Е.И. Теруков. ФТП, 49, 887 (2015)
- Ch. Hollenstein, A. A. Howling, C. Courteille, D. Magni, S.M. Scholz, G.M.W. Kroesen, N. Simons, W. de Zeeuw, W. Schwarzenbach. J. Phys. D: Appl. Phys., 31, 74 (1998)
- А.И. Белогорохов, Л.И. Белогорохова. ФТП, 33, 198 (1999)
- А.С. Леньшин, В.М. Кашкаров, П.В. Середин, Ю.М. Спивак, В.А. Мошников. ФТП, 45, 1229 (2011)
- П.Дж. Херроп, Д.С. Кемпелл. Технология тонких пленок. Справочник, под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга (М., Сов. радио, 1977) т. 2, с. 469
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.