Особенности характеристик устойчивых к полевым повреждениям структур кремний-сверхтонкий окисел-поликремний
Гольдман Е.И.1, Левашов С.А1, Чучева Г.В.1
1Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова Российской академии наук, Фрязино, Россия
Email: gvc@ms.ire.rssi.ru
Поступила в редакцию: 23 октября 2018 г.
Выставление онлайн: 20 марта 2019 г.
Приведены результаты исследований особенностей вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик структур кремний-сверхтонкий окисел-поликремний, устойчивых к полевым повреждениям. Оказалось, что происходящая с изменением полевого напряжения общая перезарядка сконцентрированных у границы раздела подложка-изолятор локализованных электронных состояний и неосновных носителей на порядок выше, чем у подверженных повреждению полевым стрессовым воздействием образцов. Туннельная вольт-амперная характеристика имеет существенно асимметричный вид: ток, протекающий из полевого электрода в кремниевую подложку, на несколько порядков меньше тока, протекающего из кремния в поликремний, при одинаковых значениях внешнего напряжения, падающего на изолирующий слой. Для объяснения такой асимметрии предположено, что в переходном слое от поликремния к окислу потенциальный барьер, разделяющий полупроводниковые электрод и подложку, имеет высоту ~ 1 эВ и поэтому всегда препятствует электропереносу; для обратных потоков этот барьер перестает ограничивать проводимость, как только уровень туннелирования станет выше него.
- A. Padovani, D.Z. Gao, A.L. Shluger, L. Larcher. J. Appl. Phys., 121, 155101 (2017)
- J.S. Suehle. In: Defects in Microelectronic Materials and Devices, ed. by D.M. Fleetwood, S.T. Pantelides and R.D. Schrimpf (CRC Press, 2008) chap. 15, p. 437
- J. Sune, E.Y. Wu. In: Defects in Microelectronic Materials and Devices, ed. by D.M. Fleetwood, S.T. Pantelides and R.D. Schrimpf (CRC Press, 2008) chap. 16, p. 465
- J. Nissan-Cohen. Appl. Surf. Sci., 39 (1-4), 511 (1989)
- T.R. Oldham, F.B. Mc Lean, H.E. Boesch, J.M. Mc Carrity. Semicond. Sci. Technol., 4 (12), 986 (1989)
- M.L. Reed. Semicond. Sci. Technol., 4 (12), 980 (1989)
- Е.И. Гольдман, Н.Ф. Кухарская, В.Г. Нарышкина, Г.В. Чучева. ФТП, 45 (7), 974 (2011)
- Е.И. Гольдман, Н.Ф. Кухарская, С.А. Левашов, В.Г. Нарышкина, Г.В. Чучева. ФТП, 51 (9), 1185 (2017)
- Е.И. Гольдман, А.И. Левашова, С.А. Левашов, Г.В. Чучева. ФТП, 49 (4), 483 (2015)
- Е.И. Гольдман, Н.Ф. Кухарская, С.А. Левашов, Г.В. Чучева. ФТП, 53 (1), 46 (2019)
- Е.И. Гольдман, Ю.В. Гуляев, Г.В. Чучева. Радиотехника, 8, 58 (2015)
- Е.И. Гольдман, Ю.В. Гуляев, А.Г. Ждан, Г.В. Чучева. ФТП, 44 (8), 1050 (2010)
- А.П. Барабан, В.В. Булавинов, П.П. Коноров. Электроника слоев на кремнии (Л., изд-во ЛГУ, 1988)
- Е.И. Гольдман, А.Г. Ждан, Н.Ф. Кухарская, М.В. Черняев. ФТП, 42 (1), 94 (2008)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.