Электрические и оптические характеристики пленок из наночастиц Si, нанесенных на подложки высоковольтным электронапылением из золей в этаноле
Российский фонд фундаментальных исследований (РФФИ), Конкурс проектов фундаментальных научных исследований, №17-03-01269
Кононов Н.Н.
1, Давыдова Д.В.2, Бубенов С.С.2, Дорофеев С.Г.2
1Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, Москва, Россия
2Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова (химический факультет), Москва, Россия
Email: nnk@kapella.gpi.ru, dorofeev_sg@mail.ru
Поступила в редакцию: 25 сентября 2018 г.
Выставление онлайн: 20 марта 2019 г.
Oписываются результаты исследования оптических и электрических характеристик пленок из нанокристаллов кремния (nc-Si) , нанесенных на подложки посредством высоковольтного электрораспыления золей nc-Si в этаноле. Обнаружено, что взаимодействие капель этанола, несущих наночастицы Si, с электрическим полем коронного разряда приводит к полимеризации этанола и образованию полимерного слоя на поверхности наночастиц Si. Высоковольтная установка для напыления пленок посредством дополнительного фокусирующего электрода позволяла изменять геометрию и напряженность электрического поля в области потока капель этанола. Как следствие, удалось получить пленки nc-Si, в которых свойства полимера на поверхности наночастиц качественно различались: пленки nc-Si_А и nc-Si_В (полученные без фокусирующего электрода и с электродом соответственно). При отжиге до 400oС пленок nc-Si_А оптическая ширина запрещенной зоны Eg увеличивается от ~1.9 до ~2.2 эВ, в то время как Eg пленок nc-Si_В остается постоянной и составляет 1.85 эВ. Постоянство Eg пленок nc-Si_В объясняется свойствами полимера на поверхности наночастиц Si, более эффективной блокировкой проникновения кислорода из окружающей атмосферы при отжиге до 400oС, чем в случае полимера в пленках nc-Si_А. Tемпературные зависимости проводимости (темновая и с фотовозбуждением) пленок nc-Si_А с хорошей точностью аппроксимируются двумя экспоненциальными функциями активационного типа, причем темновые энергии активации составляют ~0.75 и 0.1 эВ соответственно. Проводимость пленок nc-Si_А заметно уменьшается при воздействии на образцы излучением с длинами волн 460-470 нм. Температурные зависимости проводимости пленок nc-Si_В с хорошей точностью аппроксимируются экспоненциальными функциями активационного вида с энергиями активации 0.73 (темновая) и 0.59 эВ (с фотовозбуждением). В отличие от пленок nc-Si_А фотопроводимость пленок nc-Si_В увеличивается более чем в 4 раза относительно темновой при аналогичном освещении. Пленки nc-Si_В являются фотоактивными, сaндвич-подобные структуры Al/nc-Si_В/Al могут генерировать эдс. Темновая проволимость и фотопроводимость пленок nc-Si_А в диапазоне напряжений V≥2 В определяются двухцентровым эффектом Пула-Френкеля; концентрация центров, влияющих на проводимость Пула-Френкеля составляет ~3·1017 см-3. В пленках nc-Si_В в диапазоне напряжений 2-5 В электронный транспорт определяется токами, ограниченными пространственным зарядом (SCLC), а при больших напряжениях - двухцентровым эффектом Пула-Френкеля. Концентрация ловушек, дающих вклад в SCLC, составляет ~4·1016 см-3. Концентрация центров Пула-Френкеля, влияющих на проводимость, уменьшается по активационному закону с энергией активации 0.7 эВ от 3·1016 до 2·1014 см-3 с уменьшением температуры 120-40oС.
- P. Harvey-Collard, D. Drouin, M. Pioro-Ladriere. Appl. Phys. Lett., 104, 193505 (2014)
- F.I. Chowdhury, A. Alnuaimi, N. El-Atab, M. Nayfeh, A. Nayfeh. Solar Energy, 125, 332 (2016)
- M. Ghafouri, M. Parhizkar, H. Bidadi, S. Mohammadi Aref, A. Olad. Mater. Chem. Phys., 147, 1117 (2014)
- M. Ando, H. Miyamoto, H. Naito, Y. Kanemitsu. J. Non-Cryst. Sol., 299- 302, 1084 (2002)
- H.B. Bostan, R. Rezaee, M.G. Valokala, K. Tsarouhas, K. Golokhvast, A.M. Tsatsakis, G. Karimi. Life Sciences, 165, 91 (2016)
- A. Gao, X. Yang, J. Tong, L. Zhou, Y. Wang, J. Zhao, H. Maob, T. Li. Biosensors Bioelectronics, 91, 482 (2017)
- S. Nakki, J. Rytkonen, T. Nissinen, C. Florea, J. Riikonen, P. Ek, H. Zhang, H.A. Santos, A. Narvanen, W. Xu, V.-P. Lehto. Acta Biomaterialia, 13, 207 (2015)
- Nan Liu, Min-Min Shi, Xiao-Wei Pan, Wei-Ming Qiu, Jian-Hui Zhu, Hai-Ping He, Hong-Zheng Chen, Mang Wang. J. Phys. Chem. C, 112, 15865 (2008)
- S. Belhousse, F.-Z. Tighilt, S. Sam, K. Lasmi, K. Hamdani, L. Tahanout, F. Megherbi, N. Gabouze. Appl. Surf. Sci., 421, 134 (2017)
- H. Zhao, A. Du, M. Ling, V. Battaglia, G. Liu. Electrochimica Acta, 209, 159 (2016).
- J. Hernandez-Montelongo, N. Naveas, S. Degoutin, N. Tabary, F. Chai, V. Spampinato, G. Ceccone, F. Rossi, V. Torres-Costa, M. Manso-Silvan, B. Martel. Carbohydrate Polymers, 110, 238 (2014)
- N. Chehata, A. Ltaief, B. Ilahi, B. Salem, A. Bouazizi, H. Maaref, T. Baron, P. Gentile. J. Luminesc., 156, 30 (2014)
- Н.Н. Кононов, Г.П. Кузьмин, А.Н. Орлов, А.А. Сурков, О.В. Тихоневич. ФТП, 39, 868 (2005)
- S.G. Dorofeev, N.N. Kononov, S.S. Bubenov, P.A. Kotin, A.N. Zolotykh, D.V. Grigoriev. Batteries, 3 (4), 31 (2017). DOI: 10.3390/batteries 3040031
- H. Matsuura, S. Ushiba, M. Komatsu, T. Tanikawa. Phys. Chem. Chem. Phys., 6, 2994 (2004)
- А. Меден, М. Шо. Физика и применение аморфных полупроводников (М., Мир, 1991) [A. Madan, M.P. Shaw. The Physics and Applications of Amorphous Semiconductors (Academic Press, Inc., 1988)]
- С.Г. Дорофеев, Н.Н. Кононов, А.А. Ищенко, Р.Б. Васильев, М.А. Гольдштрах, К.В. Зайцева, В.В. Колташев, В.Г. Плотниченко, О.В. Тихоневич. ФТП, 43 (11), 1460 (2009)
- F.R. Shapiro, D. Adler. J. Non-Cryst. Sol., 74, 189 (1985)
- S.D. Baranovskii, P. Thomas, G.J. Adriaenssens. J. Non-Cryst. Sol., 190, 283 (1995)
- S.D. Baranovskii. Phys. Status Solidi B, 251 (3), 487 (2014). doi:10.1002/pssb.201350339
- P. Mark, W. Helfrich. J. Appl. Phys., 33, 205 (1962)
- V. Kumar, S.C. Jain, A.K. Kapoor, J. Poortmans, R. Mertens. J. Appl. Phys., 94 (2), 1283 (2003). doi: 10.1063/1.1582552
- Z. Shen, U. Kortshagen, S.A. Campbell. J. Appl. Phys. 96 (4), 2204 (2004). doi: 10.1063/1.1763991
- M.A. Rafiq, Y. Tsuchiya, H. Mizuta, S. Oda, S. Uno, Z.A.K. Durrani, W.I. Milne. Appl. Phys. Lett. 87, 182101 (2005). doi: 10.1063/1.2119431
- S. Furukawa, T. Kagawa, N. Matsumoto. Sol. St. Commun., 44 (6), 927 (1982)
- M. Ghafouri, M. Parhizkar, H. Bidadi, S. Mohammadi Aref, A. Olad. Mater. Chem. Phys., 147, 1117 (2014)
- М.К. Керимов, М.А. Курбанов, И.С. Султанахмедова, И.А. Фараджзаде, Ф.Н. Татардар, Х.С. Алиев, Ф.Ф. Яхъяев, У.В. Юсифова. ФТП, 44 (7), 934 (2010)
- Н.Н. Кононов, С.Г. Дорофеев. ФТП, 51 (5), 637 (2017)
- R.M. Hill. Phil. Mag., 23 (181), 59 (1971). DOI: 10.1080/14786437108216365
- M. Nardone, M. Simon, I.V. Karpov, V.G. Karpov. J. Appl. Phys., 112, 071101 (2012)
- D. Ielmini, Y. Zhang. J. Appl. Phys., 102, 054517 (2007)
- D. Ielmini. Phys. Rev. B, 78, 035308 (2008)
- Н. Мотт, Э. Дэвис. Электронные процессы в некристаллических веществах, т. 1 (М., Мир, 1982) [N.F. Mott, E.A. Davis. Electronic Processes in Non-Crystalline Materials, 2nd edn (Clarendon, Oxford, 1979)]
- C.R. Wronski, R.E. Daniel. Phys. Rev. B, 23 (2), 794 (1981)
- J. Kakalios, R.A. Street, W.B. Jackson. Phys. Rev. Lett., 59 (9), 1037 (1987)
- W.B. Jackson. Phys. Rev. B, 41 (2), 1059 (1990)
- H. Fritzsche. Annual Rev. Mater. Res., 31, 47 (2001)
- D.L. Staebler, C.R. Wronski. Appl. Phys. Lett., 31, 292 (1977). DOI: 10.1063/1.89674
- D.L. Staebler, C.R. Wronski. J. Appl. Phys., 51, 3262 (1980). DOI: 10.1063/1.328084.
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.