Вышедшие номера
Исследование свойств солнечных элементов на основе a-Si : H-p-i-n-структур с помощью спектроскопии полной проводимости
Гудовских А.С.1, Абрамов А.С.2,3, Бобыль А.В.2, Вербицкий В.Н.2, Зеленцов К.С.1, Ершенко Е.М.2, Кудряшов Д.А.1, Кудряшов C.А.1, Монастыренко А.О.1, Терра А.Р.1, Теруков Е.И.2,3
1Санкт-Петербургский Академический университет --- научно-образовательный центр нанотехнологий Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
3ООО "НТЦ тонкопленочных технологий в энергетике при ФТИ им. А.Ф. Иоффе", Санкт-Петербург, Россия.
Поступила в редакцию: 24 декабря 2012 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2013 г.

Проведены исследования свойств солнечных элементов на основе a-Si : H-p-i-n-структур с помощью метода спектроскопии полной проводимости. В спектрах полной проводимости выделены отклики плотности состояний в слоях (i)a-Si : H и находящихся в p-области структуры слоях a-SiС : H. Оценка величины плотности состояний в середине щели подвижности (i)a-Si : H дала значение 5 · 1016-3·эВ-1. Показано, что в процессе фотоиндуцированной деградации происходит рост этой величины до значений ~ 1017-3·эВ-1. Для широкозонных слоев a-SiC : H наблюдавшийся отклик плотности состояний в хвостах валентной зоны позволил дать оценку нижней границы этой величины на уровне Ферми (1018-3·эВ-1) и определить его положение: на 0.4 эВ выше края валентной зоны. Предложенная методика может быть использована для оптимизации конструкции солнечных элементов с целью повышения их кпд.