Влияние отжига на время жизни неравновесных носителей заряда в GaAs, выращенном при низкой температуре
Пастор А.А.1, Прохорова У.В.1, Сердобинцев П.Ю.1,2, Чалдышев В.В.3, Яговкина М.А.3
1Санкт-Петербургский государственный университет, Санкт-Петербург, Петергоф, Россия
2Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 28 января 2013 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2013 г.
Исследовались образцы GaAs, выращенные методом молекулярно-лучевой эпитаксии при низкой температуре (230oC). Часть образцов была дополнительно подвергнута послеростовому отжигу при 600oC. С помощью оригинальной схемы измерения динамического изменения коэффициента преломления света, основанной на методике накачки-зондирования (pump-probe), было определено время жизни неравновесных носителей заряда, которое до отжига оказалось равным (275±30) фс. Причиной весьма малого времени жизни в неотожженном материале является большая концентрация точечных дефектов, преимущественно антиструктурных дефектов AsGa. Исследования рентгеновской дифракции и стационарного оптического поглощения показали, что в данных образцах концентрация AsGa составляет 3·1019 см-3, что соответствует избытку мышьяка 0.26 ат%. В процессе отжига при 600oC сверхстехиометрические дефекты As самоорганизуются и формируют нановключения As в кристаллической матрице GaAs. Показано, что при этом время жизни неравновесных носителей заряда увеличивается до (452±5) фс. Такое время жизни, по-видимому, преимущественно обеспечивается захватом неравновесных носителей заряда на металлические нановключения As.
- S. Gupta, M.Y. Frankel, J.A. Valdmanis, J.F. Whittaker, G.A. Mourou, F.W. Smith, A.R. Calawa. Appl. Phys. Lett., 59, 3276 (1991)
- M.R. Melloch, J.M. Woodall, E.S. Harmon, N. Otsuka, F.H. Pollak, D.D. Nolte, R.M. Feenstra, M.A. Lutz. Ann. Rev. Mater. Sci., 25, 547 (1995)
- В.В. Чалдышев, М.А. Путято, Б.Р. Семягин, В.В. Преображенский, О.П. Пчеляков, А.В. Хан, В.Г. Канаев, Л.С. Широкова, А.В. Голиков, В.А. Кагадей, Ю.В. Лиленко, Н.В. Карпович. Электронная промышленность, вып. 1-2, 154 (1998)
- Н.А. Берт, А.И. Вейнгер, М.Д. Вилисова, С.И. Голощапов, И.В. Ивонин, С.В. Козырев, А.Е. Куницын, Л.Г. Лаврентьева, Д.И. Лубышев, В.В. Преображенский, Б.Р. Семягин, В.В. Третьяков, В.В. Чалдышев, М.П. Якубеня. ФТТ, 35, 2609 (1993)
- Л.Г. Лаврентьева, М.Д. Вилисова, В.В. Преображенский, В.В. Чалдышев. В кн: Нанотехнологии в полупроводниковой электронике, под ред. А.Л. Асеева (Изд-во СОРАН, Новосибирск, 2004)
- E.S. Harmon, M.R. Melloch, J.M. Woodall, D.D. Nolte, N. Otsuka, C.L. Chang. Appl. Phys. Lett., 63, 2248 (1993)
- M. Stellmacher, J. Nagle, J.F. Lampin, P. Santoro, J. Vaneecloo, A. Alexandrou. J. Appl. Phys., 88 (10), 6026 (2000)
- P.A. Loukakos, C. Kalpouzos, I.E. Perakis, Z. Hatzopoulos, M. Sfendourakis, G. Kostantinidis, C. Fotakis. J. Appl. Phys., 91, 9863 (2002)
- M. Haiml, U. Siegner, F. Morier-Genoud, U. Keller, M. Luysberg, P. Specht, E.R. Weber. Appl. Phys. Lett., 74, 1269 (1999)
- A.J. Lochtefeld, M.R. Melloch, J.C.P. Chang, E.S. Harmon. Appl. Phys. Lett., 69, 1465 (1996)
- U. Siegner, R. Fluck, G. Zhang, U. Keller. Appl. Phys. Lett., 69, 2566 (1996)
- А.А. Пастор, П.Ю. Сердобинцев, В.В. Чалдышев. ФТП, 46 (5), 637 (2012)
- X. Liu, A. Prasad, J. Nishio, E.R. Weber, Z. Liliental-Weber, W. Walukievich. Appl. Phys. Lett., 67 (2), 279 (1995)
- G.M. Martin. Appl. Phys. Lett., 39, 747 (1981)
- П.В. Лукин, В.В. Чалдышев, В.В. Преображенский, М.А. Путято, Б.Р. Семягин. ФТП, 46, 1314 (2012)
- H. Ruda, A. Shik. Phys. Rev. B, 63, 085 203 (2001)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.