Вышедшие номера
Фотоэлектрические явления в гетероструктурах ZnO : Al--p-Si
Никитин С.Е.1, Николаев Ю.А.1, Полушина И.К.1, Рудь В.Ю.2, Рудь Ю.В.1, Теруков Е.И.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 20 января 2003 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2003 г.

Методом магнетронного распыления получены пленки оксида цинка, легированные алюминием (ZnO : Al). На основании исследования их электрических свойств показано, что концентрация электронов в них достигает 5·1020 см-3 и в диапазоне температур 77-300 K практически постоянна, что указывает на высокую эффективность легирования ZnO примесью Al. Установлено, что осаждение тонких пленок (d~1 мкм) на поверхность (111) p-Si приводит к получению гетероструктур с максимальной фоточувствительностью ~400 В/Вт при T=300 K, которая осциллирует в спектральном диапазоне 1.3-3.5 эВ. При наклонном падении линейно поляризованного излучения в таких гетероструктурах возникает наведенный фотоплеохроизм, величина которого осциллирует в диапазоне 5-40% (theta~75o), что связано с интерференционными явлениями в пленках ZnO. Сделано заключение о возможностях применения полученных гетероструктур в качестве узкоселективных фотосенсоров естественного и линейно-поляризованного излучений.