Фотоэлектрические свойства структур ZnO/CuPc/Si
Ильчук Г.А.1, Никитин С.Е.1, Николаев Ю.А.1, Рудь В.Ю.2, Рудь Ю.В.1, Теруков Е.И.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 12 апреля 2004 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2004 г.
Методами вакуумного термического напыления слоев фталоцианина меди CuPc на поверхность пластин n- и p-Si, а затем магнетронного осаждения слоев ZnO : Al на поверхность CuPc получены структуры n-ZnO : Al / CuPc/n(p)Si. Показано, что в спектральной области 1.65-3.3 эВ полученные структуры обнаруживают высокую фоточувствительность (~ 80 В/Вт при T=300 K). Обсуждаются выпрямление и фотовольтаический эффект полученных структур в связи со свойствами кремниевых подложек. Сделан вывод о перспективах применения контакта фталоцианина с алмазоподобными полупроводниками (на примере Si) в качестве широкополосных высокоэффективных фотопреобразователей.
- А.Т. Вартанян. ЖФХ, 22, 769 (1948)
- D.D. Elay. Nature, 162, 869 (1948)
- Е.К. Пуцейко. ДАН, 39, 471 (1948)
- J.F. Nierengarten, G. Hadziioannon, N. Armaroli. Materials Today, 4, 16 (2001)
- J. Wang, G. Yu, A.J. Heeger, G. Stradanov. Organic Electron., 1, 33 (2000)
- N. Folman, W.R. Salaneck. Surf. Sci., 500, 904 (2002)
- P. Penmans, S.R. Forrest. Appl. Phys. Lett., 79, 126 (2001)
- Г.А. Ильчук, Н.В. Климова, О.И. Коньков, С.Е. Никитин, Ю.А. Николаев, Л.И. Рудая, В.Ю. Рудь, Ю.В. Рудь, Е.И. Теруков, В.В. Шаманин, Т.А. Юрре. ФТП, 38 (9) 1056 (2004)
- S.M. Sze. Physics of Semiconductor Devices (N.Y., Willey-Interscience, 1981)
- Г. Ламперт, П. Марк. Инжекционные токи в твердых телах (М., Мир, 1979)
- Физико-химические свойства полупроводниковых веществ. Справочник, под ред. А.В. Новоселовой (М., Наука, 1979)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.