Вышедшие номера
Конкуренция между изотропным и сильно анизотропным вкладами в темп ударной ионизации в прямозонных полупроводниках
Афанасьев А.Н. 1, Грешнов А.А. 1, Зегря Г.Г. 1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: afanasiev.an@mail.ru
Поступила в редакцию: 27 августа 2024 г.
В окончательной редакции: 7 сентября 2024 г.
Принята к печати: 26 ноября 2024 г.
Выставление онлайн: 7 января 2025 г.

Показано, что темп процесса межзонной ударной ионизации в прямозонных кубических полупроводниках со слабым и сильным спин-орбитальным расщеплением валентной зоны является сильно анизотропным при низких эффективных температурах распределения электронов T и становится изотропным при увеличении T. Такое поведение связано с механизмом ударной ионизации, обеспеченным взаимодействием состояний электронов и тяжелых дырок через далекие зоны, которое исчезает в некоторых высокосимметричных направлениях распространения начального электрона, таких как [100] и [111]. При T=300 K темп ударной ионизации в узкозонных полупроводниках InSb, InAs, GaSb и In0.53Ga0.47As изотропен, а для материалов со средней шириной запрещенной зоны типа InP, GaAs и CdTe изотропный и анизотропный вклады сравнимы. Предложено простое и обоснованное аналитическое обобщение формулы Келдыша, которое может быть использовано при моделировании работы устройств, использующих ударную ионизацию. Ключевые слова: ударная ионизация, прямозонный полупроводник, kp-модель, горячие носители, численное моделирование.
  1. C. Зи. Физика полупроводниковых приборов (М., Мир, 1984)
  2. K. Gopalakrishnan, P.B. Griffin, J.D. Plummer. IEEE Trans. Electron Dev., 52, 69 (2005)
  3. S. Trumm, M. Betz, F. Sotier, A. Leitenstorfer, A. Schwanhau er, M. Eckardt, O. Schmidt, S. Malzer, G.H. Dohler, M. Hanson, D. Driscoll, A.C. Gossard. Appl. Phys. Lett., 88, 132113 (2006)
  4. S. Chen, G. Wang. J. Appl. Phys., 103, 023703 (2008)
  5. F. Bertazzi, M. Moresco, E. Bellotti. J. Appl. Phys., 106, 063718 (2009)
  6. C.K. Chia. Appl. Phys. Lett., 97, 073501 (2010)
  7. E. Bellotti, F. Bertazzi. J. Appl. Phys., 111, 103711 (2012)
  8. S. Shishehchi, F. Bertazzi, E. Bellotti. J. Appl. Phys., 113, 203709 (2013)
  9. S. Avsmontas, R. Raguotis, S. Bumeliene. Semicond. Sci. Technol., 28, 025019 (2013)
  10. K. Kodama, H. Tokuda, M. Kuzuhara. J. Appl. Phys., 114, 044509 (2013)
  11. K. Ghosh, U. Singisetti. J. Appl. Phys., 124, 085707 (2018)
  12. S. Avsmontas, S. Bumeliene, J. Gradauskas, R. Raguotis, A. Suvziedelis. Semicond. Sci. Technol., 34, 075016 (2019)
  13. S. Avsmontas, S. Bumeliene, J. Gradauskas, R. Raguotis, A. Suvziedelis. Sci. Rep., 10, 10580 (2020)
  14. M.V. Fischetti, S.E. Laux. Phys. Rev. B, 38, 9721 (1988)
  15. Л.В. Келдыш. ЖЭТФ, 37, 713 (1959)
  16. B.K. Ridley. Quantum Processes in Semiconductors (Oxford University Press, N.Y., 2013)
  17. M.G. Burt, S. Brand, C. Smith, R.A. Abram. J. Phys. C: Solid State Phys., 17, 6385 (1984)
  18. K.F. Brennan. The Physics of Semiconductors: With Applications to Optoelectronic Devices (Cambridge University Press, Cambridge, 1999)
  19. А.Н. Афанасьев, А.А. Грешнов, Г.Г. Зегря. Письма ЖЭТФ, 105, 586 (2017)
  20. Б.Л. Гельмонт. ЖЭТФ, 75, 536 (1978)
  21. R. Redmer, J.R. Madureira, N. Fitzer, S.M. Goodnick, W. Schattke, E. Scholl. J. Appl. Phys., 87, 781 (2000)
  22. A.R. Beattie, R.A. Abram, P. Scharoch. Semicond. Sci. Technol., 5, 738 (1990)
  23. B. Gelmont, K.-S. Kim, M. Shur. Phys. Rev. Lett., 69, 1280 (1992)
  24. K.Y. Choo, D.S. Ong. J. Appl. Phys., 96, 5649 (2004)
  25. C.K. Chia, G.K. Dalapati. IEEE Trans. Electron Dev., 60, 3435 (2013)
  26. D. Dolgos, A. Schenk, B. Witzigmann. J. Appl. Phys., 111, 073714 (2012)
  27. I.C. Sandall, J.S. Ng, S. Xie, P.J. Ker, C.H. Tan. Opt. Express, 21, 8630 (2013)
  28. P. Scharoch, R.A. Abram. Semicond. Sci. Technol., 3, 973 (1988)
  29. S. Brand, R.A. Abram. J. Phys. C: Solid State Phys., 17, L201 (1984)
  30. R. Winkler. Spin-Orbit Coupling Effects in Two-Dimensional Electron and Hole Systems (Springer Verlag, Berlin--Heidelberg, 2003)
  31. M. Cardona, N.E. Christensen, G. Fasol. Phys. Rev. B, 38, 1806 (1988)
  32. G. Fonthal, L. Tirado-Meji a, J. Mari n-Hurtado, H. Ariza-Calderon, J. Mendoza-Alvarez. J. Phys. Chem. Solids, 61, 579 (2000)
  33. I. Vurgaftman, J.R. Meyer, L.R. Ram-Mohan. J. Appl. Phys., 89, 5815 (2001)
  34. W.H. Lau, J.T. Olesberg, M.E. Flatte. Electronic structures and electron spin decoherence in (001)-grown layered zincblende semiconductors (2004). arXiv:condmat/ 0406201 [cond-mat.mes-hall]
  35. J.-M. Jancu, R. Scholz, E.A. de Andrada e Silva, G.C. La Rocca. Phys. Rev. B, 72, 193201 (2005)
  36. New Semiconductor Materials Database. Characteristics and Properties. Ioffe Institute (http://www.matprop.ru/)
  37. E.O. Kane. J. Phys. Chem. Solids, 1, 249 (1957)
  38. S. Richard, F. Aniel, G. Fishman. Phys. Rev. B, 70, 235204 (2004)
  39. A.P. Dmitriev, M.P. Mikhailova, I.N. Yassievich. Phys. Status Solidi B, 113, 125 (1982).

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.