Вышедшие номера
Диффузия хрома в эпитаксиальный арсенид галлия
Вилисова М.Д.1, Другова Е.П.2, Пономарев И.В.1, Чубирко В.А.2
1Сибирский физико-технический институт им. акад. В.Д. Кузнецова Томского государственного университета, Томск, Россия
2Научно-исследовательский институт полупроводниковых приборов, Томск, Россия
Поступила в редакцию: 12 марта 2007 г.
Выставление онлайн: 20 января 2008 г.

Исследована диффузия Cr в эпитаксиальный GaAs в открытой системе в диапазоне температур 750-850oC. Определена температурная зависимость коэффициента диффузии и растворимости хрома в GaAs. Температурная зависимость коэффициента диффузии и растворимости Cr описывается уравнением Аррениуса с параметрами для коэффициента диффузии: D0=1.9·109 см2/с, E=4.1±0.2 эВ; для растворимости: N0=2.3·1024 см-3, E0=1.9±0.4 эВ. Изучено влияние защитной пленки SiO2 на коэффициент диффузии Cr и морфологию поверхности GaAs после диффузии. PACS: 66.30.Jt, 68.55.Ln, 81.05.Ea