Методом молекулярной динамики теоретически исследована структура и кинетические свойства полого однослойного кластера Si₆₀, имеющего структуру фуллерена, в области температур 10=<q T=<q 1760 K. Выполнено 5 серий расчетов с созданием у кластера Si₆₀ следующих сред: вакуума, внутренней области фуллерена, заполненной 30 и 60 атомами H при наличии и без наружного водородного окружения из 60 атомов. Средний радиус R_cl кластера кремния увеличивается с ростом температуры, достигая наибольшего значения при отсутствии водорода вблизи кластера и приобретая более низкие значения в случае полной компенсации свободных связей у атомов Si атомами водорода, находящимися внутри кластера, при отсутствии снаружи водородной "шубы". С увеличением температуры уменьшаются среднее число Si-Si-связей n_b, приходящихся на атом в кластере кремния, и средняя длина L_b этих связей. Более высокую стабильность значений n_b и L_b во всем исследуемом температурном интервале проявляет фуллерен Si₆₀, окруженный водородной "шубой" и содержащий внутри себя 60 атомов H. Такой кластер имеет более низкие значения коэффициента самодиффузии при высоких температурах. Этот стабилизированный водородом фуллерен устойчив по отношению к образованию линейных цепочек атомов вплоть до температур ~270-280 K. PACS: 61.48.+c, 64.70.Nd, 81.05.Tp

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.