Вышедшие номера
Сканирующая туннельная микроскопия структуры Si-SiO2: использование режима ошибки обратной связи при исследовании поверхности
Корнилов В.М.1, Лачинов А.Н.1, Логинов Б.А.2, Беспалов В.А.2
1Институт физики молекул и кристаллов Уфимского научного центра РАН, Уфа, Россия
2Московский государственный институт электронной техники (Технический университет), Зеленоград, Россия
Поступила в редакцию: 27 октября 2008 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2009 г.

Представлены результаты экспериментального исследования методом сканирующей туннельной микроскопии поверхности кремния с естественным слоем окисла. Показано, что наблюдаемая модификация поверхности вызвана образованием каналов утечки в слое двуокиси кремния. Методически обоснована и показана возможность использования режима ошибки обратной связи для создания и исследования каналов утечки, индуцированных напряжением на туннельном зазоре. Используемая методика позволяет исследовать особенности формирования токовых каналов и тем самым диагностировать электрофизические свойства нанометровых слоев SiO2. PACS: 68.37.Ef, 73.40.Gk