Вышедшие номера
Численное моделирование процесса гидрогенизации GaAs на стадии охлаждения
Кагадей В.А.1, Нефёдцев Е.В.2
1Научно-исследовательский институт полупроводниковых приборов, Томск, Россия
2Институт сильноточной электроники СО РАН, Томск, Россия
Поступила в редакцию: 5 февраля 2009 г.
Выставление онлайн: 19 марта 2010 г.

Проведено моделирование эволюции концентрационных профилей всех типов водородных частиц, носителей заряда, активной легирующей примеси и распределения электрического поля в приповерхностном слое гидрогенизированного p-GaAs в процессе охлаждения образца после окончания этапа введения водорода. Показано, что вид конечных концентрационных профилей водородсодержащих частиц и распределение внутреннего электрического поля в гидрогенизированном слое p-GaAs зависят от температурно-временного режима охлаждения образца. Степень влияния скорости охлаждения на конечное состояние гидрогенизированного слоя увеличивается по мере уменьшения уровня легирования полупроводника. Приводятся и обсуждаются закономерности формирования конечного состояния системы водород-кристалл в зависимости от скорости охлаждения образца.