Вышедшие номера
Эволюция деформационного состояния и компонентного состава при изменении количества квантовых ям в многослойных структурах InGaN/GaN
Кладько В.П.1, Кучук А.В.1, Сафрюк Н.В.1, Мачулин В.Ф.1, Беляев А.Е.1, Конакова Р.В.1, Явич Б.С.2, Бер Б.Я.3, Казанцев Д.Ю.3
1Институт физики полупроводников им. В.Е. Лашкарева Национальной академии наук Украины, Киев, Украина
2ЗАО "Светлана-Оптоэлектроника" Санкт-Петербург, Россия
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 11 ноября 2010 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2011 г.

Методами высокоразрешающей рентгеновской дифрактометрии проведены исследования многослойных структур в системе InxGa1-xN/GaN, выращенных методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений. Установлена связь между уровнем деформации (релаксации) системы, содержанием индия в квантовых ямах, соотношением толщин яма/барьер и числом квантовых ям активной сверхрешетки. Показано, что частичная релаксация системы начинается уже в структурах с одной квантовой ямой. Полученные результаты показывают, что процессы релаксации должны иметь значительное влияние на оптические характеристики приборов.