Вышедшие номера
Электрохимическое вольт-емкостное профилирование концентрации свободных носителей заряда в HEMT-гетероструктурах на основе соединений InGaAs/AlGaAs/GaAs
Брунков П.Н.1, Гуткин А.А.1, Рудинский М.Э.1, Ронжин О.И.1, Ситникова А.А.1, Шахмин А.А.1, Бер Б.Я.1, Казанцев Д.Ю.1, Егоров А.Ю.2, Земляков В.Е.3, Конников С.Г.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский физико-технологический научно-образовательный центр Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
3Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской академии наук, Черноголовка, Россия
Поступила в редакцию: 2 декабря 2010 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2011 г.

Проведено исследование распределения свободных носителей заряда по глубине HEMT-структур с квантово-размерными слоями методом электрохимического вольт-емкостного профилирования. Показано, что реальное распределение концентрации свободных носителей и их энергетический спектр в канале HEMT-структуры могут быть получены из численного моделирования результатов профилирования на основе самосогласованного решения одномерных уравнений Шредингера и Пуассона.