Вышедшие номера
Дифракционные решетки с отражением в высоком порядке для мощных полупроводниковых лазеров
Васильева В.В.1, Винокуров Д.А.1, Золотарев В.В.1, Лешко А.Ю.1, Петрунов А.Н.1, Пихтин Н.А.1, Растегаева М.Г.1, Соколова З.Н.1, Шашкин И.С.1, Тарасов И.С.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 25 июля 2011 г.
Выставление онлайн: 20 января 2012 г.

Для осуществления селективной обратной связи в полупроводниковом лазере предложено создавать в одном из эмиттеров глубокую дифракционную решетку с большим периодом (~2 мкм). Расчеты частотной зависимости коэффициента отражения в 12-м порядке дифракции для прямоугольных, треугольных и трапециевидных дифракционных решеток показали, что для получения максимального коэффициента отражения волноводной моды в лазерной структуре следует использовать дифракционную решетку глубиной ~2 мкм прямоугольной или трапециевидной формы. С использованием фотолитографических методов и реактивного ионного травления в эмиттере Al0.3Ga0.7As лазерной структуры GaAs/AlGaAs были созданы глубокие дифракционные решетки трапециевидной формы с большим периодом.