Вышедшие номера
Влияние диффузии с боковой поверхности на скорость роста нитевидных нанокристаллов GaN
Сибирёв Н.В.1,2, Tchernycheva M.1,3,4, Цырлин Г.Э., Patriarche G.4, Harmand J.C.4, Дубровский В.Г.1,2,5
1Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж.И. Алфёрова Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный университет, Санкт-Петербург, Россия
3Institute d'Electronique Fondamentale, Universite Paris-Sud F Orsay, France
4CNRS-LPN, Route de Nozay, Marcoussis, France
5Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 21 ноября 2011 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2012 г.

Проведены экспериментальные и теоретические исследования кинетики роста нитевидных нанокристаллов GaN на поверхности Si(111) в отсутствие катализатора. Безкаталитические нитевидные нанокристаллы GaN были выращены методом молекулярно-пучковой эпитаксии с AlN-вставками, что позволяет определить их вертикальную скорость роста. Развита модель формирования нитевидных нанокристаллов GaN и получено выражение для скорости роста. Показано, что зависимость скорости роста от диаметра в общем случае имеет минимум. Значение диаметра, при котором наблюдается минимум скорости роста, монотонно возрастает с увеличением диффузионного потока Ga с боковой поверхности.