Вышедшие номера
Создание и фотоэлектрические свойства гетероструктур Ox/p-InAs
Рудь В.Ю.1, Рудь Ю.В.2, Теруков Е.И.2, Ушакова Т.Н.2, Сергинов М.С.3
1Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
3Туркменский государственный университет им. Махтумгули, Ашхабад, Туркменистан
Поступила в редакцию: 22 марта 2012 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2012 г.

Впервые методом поверхностного термического взаимодействия арсенида индия с нормальной воздушной атмосферой Земли получены гетероструктуры, представляющие собой контакт тонкой пленки собственного окисла Ox арсенида индия с пластиной InAs. Исследованы первые вольт-амперные характеристики и спектральные зависимости фоточувствительности гетероструктур Ox/p-InAs. Впервые для этих гетероструктур обнаружено выпрямление и анализируются спектральные зависимости фоточувствительности. Сделан вывод о возможности использования новой технологии для получения широкополосных фотодетекторов оптического излучения Ox/p-InAs.