Вышедшие номера
Фотоотклик p-n-структур на основе InSb при освещении излучением CO 2-лазера
Ашмонтас С.1, Градаускас И.1, Науджюс К.1, Ширмулис Э.1
1(Институт физики полупроводников Академии наук Литвы,, Вильнюс, Литва)
Поступила в редакцию: 19 апреля 1994 г.
Выставление онлайн: 20 октября 1994 г.

Изучен механизм формирования фотоэдс на p-n-переходе антимонида индия при освещении его импульсном излучении CO2-лазера при температуре жидкого азота. Установлено, что возникающая фотоэдс обусловлена как разогревом носителей заряда излучением, так и генерацией электронно-дырочных пар при двухфотонном поглощении света. Показано, что при прямом смещении p-n-перехода фотоотклик в основном обусловлен разогревом носителей заряда и линейно растет с ростом интенсивности излучения. При обратном смещении перехода доминирующую роль в формировании фотоотклика играет генерация электронно-дырочных пар. Установлено, что максимальная величина вентильной фотоэдс уменьшается с ростом температуры кристаллической решетки вследствие уменьшения высоты потенциального барьера p-n-перехода.