Вышедшие номера
Получение и исследование 6H-SiC эпитаксиально-диффузионных p-n-структур
Лебедев А.А.1, Андреев А.Н.1, Мальцев А.А.1, Растегаева М.Г.1, Савкина Н.С.1, Челноков В.Е.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 25 ноября 1994 г.
Выставление онлайн: 20 августа 1995 г.

Показано, что при диффузии бора в 6H-SiC эпитаксиальные p-n-структуры можно значительно повысить напряжение объемного пробоя и уменьшить вероятность поверхностного пробоя последних. Обнаружено, что выбор оптимальной температуры диффузии позволяет также сохранить достаточно малое омическое сопротивление диода при включении в прямом направлении. Проведено исследование величин пробоя 6H-SiC эпитаксиально-диффузионных p-n-структур в широком диапазоне температур.