Вышедшие номера
Применение нестационарной емкостной спектроскопии для исследования параметров p-n-структур на основе SiC
Лебедев А.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 20 декабря 1994 г.
Выставление онлайн: 20 мая 1996 г.

Показано, что применение нестационарной емкостной спектроскопии для исследования свойств диодов, в базе которых имеются перезаряжающиеся при инжекции глубокие центры, позволяет определять диффузионные длины и коэффициенты инжекции неосновных носителей тока в p-n-переходах. Разработанные методики использованы для изучения свойств p-n-структур на основе соединений 6H- и 4H-SiC. Результаты измерений находятся в согласии с известными данными, полученными другими методами.