Вышедшие номера
Диагностика буферных слоев многослойных эпитаксиальных структур из GaAs методом фотолюминесценции
Белоусов П.С.1, Гурошев В.И.1, Тагер А.С.1, Федоров Ю.Ю.1
1Государственное научно-производственное предприятие ''Исток'', Фрязино, Россия
Поступила в редакцию: 10 января 1996 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 1996 г.

Изучены спектры фотолюминесценции (T=77 и 4.2 K) многослойных эпитаксиальных структур из GaAs, выращенных на полуизолирующей подложке. Проведен сопоставительный анализ содержания фоновых примесей и дефектов в высокоомных буферных слоях с величиной их проводимости. Показано, что метод фотолюминесценции можно использовать для диагностики буферных слоев. Основным критерием совершенства слоев является отсутствие в них достаточно глубоких примесных и структурных дефектов типа D-V Ga, Ga As(D-V Ga), V As- ZnGa, V As- SiAs (D - дефект донорного типа), ответственных за полосы фотолюминесценции с энергией максимума излучения 1.20, 1.32, 1.35, 1.38 и 1.41 эВ соответственно.