Вышедшие номера
Анализ зарядов и поверхностных состояний на границах раздела структур полупроводник--диэлектрик--полупроводник
Берман Л.С.1, Белякова Е.И.1, Костина Л.С.1, Kim E.D.2, Kim S.C.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Korea Electrotechnology Research Institute, South Korea
Поступила в редакцию: 17 января 2000 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2000 г.

Разработан метод определения энергетического спектра зарядов и плотностей поверхностных состояний на границах раздела структур полупроводник-диэлектрик-полупроводник, основанный на анализе вольт-фарадных характеристик. Экспериментальная проверка метода выполнена на структурах кремний-двуокись кремния-кремний, изготовленных путем прямого сращивания как зеркально полированных гладких пластин, так и пластин с регулярным мезаскопическим рельефом на внутренней поверхности из сращиваемых пластин. На поверхностях с регулярным рельефом потность поверхностных состояний меньше, чем на поверхностях без рельефа.