Электрофизические свойства слоев кремния, имплантированных ионами иттербия
Александров О.В.1, Захарьин А.О.1, Соболев Н.А.2
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 27 июня 2001 г.
Выставление онлайн: 20 января 2002 г.
Установлено, что имплантация ионов иттербия с энергией 1 МэВ и дозой 1013 см-2 в кремний и постимплантационный отжиг при температурах 600-1100oC приводят к образованию донорных центров. Концентрация донорных центров выше в образцах, дополнительно имплантированных ионами кислорода. Результаты указывают, что происходит образование по крайней мере двух типов донорных центров, обусловленных примесными атомами иттербия и кислорода. Определена зависимость подвижности электронов от концентрации электрически активных центров в слоях кремния, имплантированных ионами редкоземельной примеси иттербия, в диапазоне концентраций 7· 1015-1017 см-3.
- Н.А. Соболев. ФТП, 29, 1153 (1995)
- Б.А. Андреев, Н.А. Соболев, Д.И. Курицын, М.И. Маковийчук, Ю.А. Николаев, Е.О. Паршин. ФТП, 33, 420 (1999)
- Н.А. Соболев, А.М. Емельянов, Ю.А. Николаев. ФТП, 33, 931 (1999)
- F. Priolo, S. Coffa, G. Franzo, C. Spinella, V. Bellani. J. Appl. Phys., 74, 4936 (1993)
- О.В. Александров, Н.А. Соболев, Е.И. Шек, А.В. Меркулов. ФТП, 30, 876 (1996)
- N.A. Sobolev, O.V. Alexandrov, E.I. Shek. MRS Symp. Proc., 442, 237 (1997)
- О.В. Александров, А.О. Захарьин, Н.А. Соболев, Е.И. Шек, М.И. Маковийчук, Е.О. Паршин. ФТП, 32, 1029 (1998)
- В.В. Емцев, В.В. Емцев (мл.), Д.С. Полоскин, Н.А. Соболев, Е.И. Шек, Й. Михель, Л.С. Кимерлинг. ФТП, 33, 649 (1999)
- D.M. Caughey, R.E. Thomas. Proc. IEEE, 55, 2192 (1967)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.