Вышедшие номера
ОДП в структурах n-Si с несимметричными по площади контактами
Мусаев А.М.1
1Институт физики им. Х.И. Амирханова Дагестанского научного центра РАН, Махачкала, Россия
Поступила в редакцию: 20 мая 2014 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2015 г.

Рассмотрен физический механизм возникновения отрицательной дифференциальной проводимости в структурах кремния n-типа с сильно асимметричными по площади контактами. Показано, что эффект связан с формированием стационарной варизонной области вблизи точечного контакта структуры, обусловленным термоупругой деформацией кристалла, при неоднородном джоулевом разогреве.