Вышедшие номера
Облучение ионами аргона диодов Шоттки на основе 4H-SiC
Российский научный фонд, 22-12-00003
Стрельчук А.М.1, Калинина Е.В.1, Кудояров М.Ф.1, Патрова М.Я.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: anatoly.strelchuk@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 3 мая 2024 г.
В окончательной редакции: 8 июля 2024 г.
Принята к печати: 30 октября 2024 г.
Выставление онлайн: 16 декабря 2024 г.

Исследовано влияние облучения ионами аргона с энергией 53 МэВ в диапазоне доз (1-7)·1010 см-2 на вольт-амперные характеристики диодов Шоттки Cr/SiC(4H) с уровнем легирования эпитаксиального слоя ~1014-3·1015 см-3. В характеристиках диодов как до облучения, так и после него обнаружены и обсуждаются эффекты, затрудняющие интерпретацию результатов, оценку радиационной стойкости диодов и подтверждающие влияние дефектов эпитаксиального слоя на характеристики диодов. Дана верхняя оценка величины пороговой дозы облучения D (~6·10^9 см-2) ионами Ar8+ с энергией 53 МэВ. Ключевые слова: SiC, диод Шоттки, облучение Ar8+, IV характеристики, шунты, дефекты.
  1. A.M. Strel'chuk, A.A. Lebedev, V.V. Kozlovski, N.S. Savkina, D.V. Davydov, V.V. Solov'ev, M.G. Rastegaeva. Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res., B 147, 74 (1999)
  2. А.М. Стрельчук, В.В. Козловский, А.А. Лебедев. ФТП, 52, 1651 (2018)
  3. Е.В. Калинина, М.Ф. Кудояров, И.П. Никитина, Е.В. Дементьева, В.В. Забродский. ФТП, 56, 254 (2022)
  4. А.М. Стрельчук, Е.В. Калинина. Науч.-техн. ведомости СПбГПУ. Физ.-мат. науки, 16, 83 (2023). DOI: https://doi.org/10.18721/JPM.161.212
  5. D. Defives, O. Noblanc, С. Dua, С. Brylinski, M. Barthula, F. Meyer. Mater. Sci. Eng., B61-62, 395 (1999)
  6. D. Defives, O. Noblanc, С. Dua, С. Brylinski, M. Barthula, V. Aubry-Fortuna, F. Meyer. IEEE Trans. Electron Dev., 46, 449 (1999)
  7. M.L. Bolen, M.A. Capano. J. Electron. Mater., 38, 574 (2009)
  8. M. Nakamura,Y. Hashino, T. Furusho, H. Kinoshita, H. Shiomi, M. Yoshimoto. Mater. Sci. Forum, 600--603, 967 (2009)
  9. П.А. Иванов, Н.Д. Ильинская, А.С. Потапов, Т.П. Самсонова, А.В. Афанасьев, В.А. Ильин. ФТП, 47, 83 (2013)
  10. H. Ohyama, K. Takakura, T. Watanabe, K. Nishiyama, K. Shigaki, T. Kudou, M. Nakabayashi, S. Kuboyama, S. Matsuda, C. Kamezawa, E. Simoen, C. Claey. J. Mater. Sci.: Mater. Electron., 16, 455 (2005)
  11. L.Y. Liu, T.L. Shen, A. Liu, T. Zhang, S. Bai, S.R. Xu, P. Jin, Y. Hao, X.P. Ouyang. Diamond Relat. Mater., 88, 256 (2018)
  12. S. Ganiyev 1, M. Azim Khairi, D. Ahmad Fauzi, Y. Abdullah, N.F. Hasbullah. ФТП, 51, 1721 (2017)
  13. P. Hazdra, S. Popelka, A. Schoner. IEEE Trans. Electron Dev., 65, 4483 (2018)
  14. R.L. Gao, X. Du, W.Y. Ma, B. Sun, J.L. Ruan, X. Ouyang, H. Li, L. Chen, L.Y. Liu, X.P. Ouyang. Sensors Actuators A: Physical, 333, 113241 (2022).

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.