Светоуправляемые электрические поля в высокоомной МДПДМ структуре с туннельно-прозрачным диэлектриком
Резников Б.И.1, Царенков Г.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 31 октября 1994 г.
Выставление онлайн: 20 июля 1995 г.
Теоретически исследовано влияние барьера Шоттки varphistyleBn, сечений захвата носителей на примесный уровень и концентрации глубокой примеси на фотоэффект в сильно смещенной высокоомной симметричной МДПДМ структуре с туннельно-прозрачным диэлектриком при освещении ее со стороны анода монохроматическим собственным светом. Решались полная система уравнений непрерывности в диффузионно-дрейфовом приближении при наличии эмиссии носителей через границы полупроводника и уравнение Пуассона. Результаты приведены для структуры на основе CdTe с одиночным примесным уровнем. Показана возможность качественно новых типов распределения электрического поля в катодной части толщи полупроводника. При достаточно большой концентрации примеси (Nt~= 1013 см-3) и достаточно большом отношении сечений захвата носителей (sigman/sigmap~= 103) электрическое поле в катодной области сильно зависит от varphistyleBn. При varphistyleBn>varphicr (evarphicr=Eg-kTln(Nv/p*), p* - равновесная концентрация дырок в нейтральном объеме ) поле E(x) в толще монотонно возрастает, имеет точку перегиба и положительную кривизну (d2E/dx2>0) в катодной области. В противоположном случае (varphistyleBn<varphicr) поле достигает максимума внутри толщи и убывает к катоду. Характерное расстояние, на котором изменяется поле, - дрейфовая длина электронов. Величина поля на темновом контакте растет с увеличением varphistyleBn, sigman/sigmap и Nt. Такой характер распределения поля определяется чувствительностью степени заполнения примесных уровней и объемного заряда примеси к величине электронной концентрации. Последняя изменяется в катодной толще благодаря тепловой генерации электронов с уровня примеси (varphistyleBn>varphicr) или рекомбинации через этот уровень (varphistyleBn<varphicr).
- Б.И. Резников, Г.В. Царенков. ФТП, 28, 242 (1994)
- Б.И. Резников, Г.В. Царенков. ФТП, 28, 867 (1994)
- Б.И. Резников, Г.В. Царенков. ФТП, 28, 1788 (1994)
- П.Г. Кашерининов, А.В. Кичаев, И.Д. Ярошецкий. Письма ЖТФ, 19, 49 (1993)
- С. Зи. \it Физика полупроводниковых приборов (М., Мир 1984) Т. 1, с. 304
- T. Takebe, J. Sarai, H. Matsunami. J. Appl. Phys., 53, 457 (1982)
- P. Jandl, M. Rick, J. Rosenzweig. Phys. St. Sol. (a), 121, 219 (1990)
- D. Verity, F.J. Bryant, C.G. Scott, D. Shaw. J. Cryst. Growth, 59, 234 (1982)
- П.Г. Кашерининов, Б.И. Резников, Г.В. Царенков. ФТП, 26, 1480 (1992)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.